Nikalyte NL-50磁控濺射儀專(zhuān)為研究納米粒子特性的研究人員設計，使用方便，結構緊湊。利用磁控濺射技術(shù)在真空中從固體源材料生成一束超純納米粒子，整個(gè)過(guò)程不使用任何化學(xué)品或表面活性劑

Evap-4 Power Supply電子束蒸發(fā)電壓控制器用于電子束蒸發(fā)器，具有高效、緊湊的4通道，具備共蒸發(fā)能力。迷你電子束蒸發(fā)器能夠在沉積常見(jiàn)工藝金屬（如金、銀和鉻）時(shí)提供佳的控制力，并且與熱舟源相比，對基底和周?chē)h(huán)境的熱負荷極小。

Mini E-Beam Evaporator小型電子束蒸發(fā)器是一種用于高精度薄膜沉積的edge-cutting工具。它適用于研究和生產(chǎn)環(huán)境，這種緊湊的系統利用電子束直接加熱坩堝中的蒸發(fā)物，能夠以的控制力沉積金屬。與傳統的熱蒸發(fā)方法相比，Mini E-Beam Evaporator具有更高的效率，對基底的熱負荷更低，并且能夠同時(shí)共蒸發(fā)多種材料，使其成為各種涂層應用中多功能且可靠的解決方案。

Nikalyte NL-UHV磁控濺射儀能夠在超真空中生成和沉積納米顆粒，以在樣品上創(chuàng )建功能化表面。 可以通過(guò)精確控制納米顆粒的尺寸、組成和結構來(lái)定制納米顆粒涂層的特性，從而實(shí)現定制化特性。

Nikalyte NL-UHV超高真空納米顆粒沉積源允許將超純納米顆粒直接沉積在各種基底和材料上?？梢哉{整膜的密度，并且涂層能夠很好地附著(zhù)在樣品表面。 NL-UHV有多種配置可供選擇，包括單個(gè)1英寸和2英寸源，以及三重1英寸源NL-DX3，后者允許單獨或作為合金沉積多達三種材料。

NL-QMS磁控濺射納米顆粒尺寸控制系統能夠實(shí)時(shí)監測納米顆粒的尺寸分布，通過(guò)質(zhì)量過(guò)濾器按質(zhì)量或直徑實(shí)時(shí)掃描或過(guò)濾沉積的納米顆粒，從而促進(jìn)生長(cháng)條件的優(yōu)化。