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    Evap-4 Power Supply電子束蒸發(fā)電壓控制器

    簡(jiǎn)要描述：Evap-4 Power Supply電子束蒸發(fā)電壓控制器用于電子束蒸發(fā)器，具有高效、緊湊的4通道，具備共蒸發(fā)能力。迷你電子束蒸發(fā)器能夠在沉積常見(jiàn)工藝金屬（如金、銀和鉻）時(shí)提供佳的控制力，并且與熱舟源相比，對基底和周?chē)h(huán)境的熱負荷極小。

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    • 更新時(shí)間：2025-02-01
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    Evap-4 Power Supply電子束蒸發(fā)電壓控制器用于電子束蒸發(fā)器，具有高效、緊湊的4通道，具備共蒸發(fā)能力。迷你電子束蒸發(fā)器能夠在沉積常見(jiàn)工藝金屬（如金、銀和鉻）時(shí)提供佳的控制力，并且與熱舟源相比，對基底和周?chē)h(huán)境的熱負荷極小。

    Evap-4 Power Supply電子束蒸發(fā)電壓控制器

    這種技術(shù)利用電子束直接蒸發(fā)棒狀材料，或者通過(guò)加熱偏置坩堝間接蒸發(fā)材料。當從坩堝蒸發(fā)時(shí)，部分準直的電子束在材料利用率方面比傳統電子束蒸發(fā)器或熱舟源更具優(yōu)勢，尤其是在處理昂貴材料時(shí)。
    主動(dòng)冷卻的銅頭設計使得在運行過(guò)程中幾乎不產(chǎn)生放氣，而封閉的蒸發(fā)槽可以吸收大部分輻射熱，從而進(jìn)一步降低對基底的熱負荷。Evap-4非常適合在溫度敏感的基底上沉積精確的薄膜涂層。Evap-4配備了通量板，用于測量源材料發(fā)出的離子通量，并提供沉積速率的獨立測量。
    Evap-4 Power Supply電子束蒸發(fā)電壓控制器可在一個(gè)單元內控制多達4個(gè)蒸發(fā)槽，并提供兩種控制模式：
    • 燈絲電流控制：用戶(hù)直接調節燈絲電流。
    • 功率控制：用戶(hù)設置功率設定點(diǎn)，電源會(huì )自動(dòng)調節燈絲電流以達到所需的功率。

    規格參數
    • 安裝法蘭：NWCF63
    • 真空內長(cháng)度：標準300毫米（可定制長(cháng)度）
    • 真空內直徑：57毫米
    • 坩堝體積：1000毫米3（1立方厘米）
    • 坩堝材料：鉬（Mo）、鎢（W）、石墨（Gr）
    • 坩堝襯里：氧化鋁（Al?O?）、氮化硼（PBN）
    • 超高真空（UHV）兼容性：是，可烘烤至250°C
    • 冷卻液流量：Min1.0升/分鐘
    • 快門(mén)：手動(dòng)或可選氣動(dòng)執行器
    • 功率：?jiǎn)蜗?00-240伏交流電，50/60赫茲


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