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簡(jiǎn)要描述：Nikalyte NL-Cube物理氣相沉積系統是一個(gè)緊湊且靈活的PVD（物理氣相沉積）系統，具備薄膜、納米顆粒和合金沉積能力。該系統有兩種型號：375型（最多可容納五個(gè)源，基底直徑可達四英寸）和300型（最多可容納四個(gè)源，基底直徑可達兩英寸）。由于其體積相對較小，真空腔體的抽真空速度較快，周轉時(shí)間約為30分鐘。
產(chǎn)品型號：廠(chǎng)商性質(zhì)：代理商更新時(shí)間：2025-01-26訪(fǎng) 問(wèn) 量：359產(chǎn)品分類(lèi)
Product Category詳細介紹
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Nikalyte NL-Cube物理氣相沉積系統是一個(gè)緊湊且靈活的PVD（物理氣相沉積）系統，具備薄膜、納米顆粒和合金沉積能力。該系統有兩種型號：375型（最多可容納五個(gè)源，基底直徑可達四英寸）和300型（最多可容納四個(gè)源，基底直徑可達兩英寸）。由于其體積相對較小，真空腔體的抽真空速度較快，周轉時(shí)間約為30分鐘。
Nikalyte NL-Cube物理氣相沉積系統可兼容多種源，包括磁控濺射源、納米顆粒源、小型電子束源、熱舟源以及原子和離子源。系統可以配置為向上濺射或向下濺射模式。此外，還提供基底旋轉、偏壓以及最高可達800℃的加熱選項。
真空腔體在英國制造，采用高質(zhì)量的304不銹鋼材質(zhì)，并配有輕質(zhì)鋁制門(mén)。它安裝在一個(gè)系統機架上，該機架包含控制系統、電源和真空泵。整個(gè)系統配備輪子以便移動(dòng)，并在定位后可鎖定腳部以固定位置。
集成的PC和多功能Spectrum軟件提供了無(wú)縫的用戶(hù)體驗，使客戶(hù)能夠遠程控制該系統并運行復雜的工藝配方。
關(guān)鍵特性：
· 可用的源包括磁控濺射源、納米粒子源、小型電子束源、熱舟蒸發(fā)源、原子源和離子源。
· 提供向上濺射或向下濺射配置。
· 提供旋轉、偏壓以及高達800℃的加熱選項。
· 周轉時(shí)間約為45分鐘。
· 真空度可達5×10??托。
· 系統機架包含控制系統、電源和泵。
· 集成的個(gè)人電腦配備Spectrum軟件，可實(shí)現自動(dòng)化過(guò)程控制、復雜配方和數據記錄。
The Cube系統配置：
項目 | Cube 300 | Cube 375 |
沉積腔尺寸 | 300×300×300 mm | 375×375×375 mm |
基礎真空度 | <1×10??托 | <5×10??托 |
濺射方向 | 向下濺射/向上濺射 | 向下濺射/向上濺射 |
樣品臺 | 2英寸晶圓，20轉/分鐘旋轉，射頻/直流偏壓和加熱至400℃ | 4英寸晶圓，20轉/分鐘旋轉，射頻/直流偏壓和加熱至800℃ |
抽真空系統 | 80升/秒渦輪分子泵配7.2立方米/小時(shí)干式前級泵 | 300升/秒渦輪分子泵配7.2立方米/小時(shí)干式前級泵 |
閥門(mén) | 手動(dòng)/自動(dòng)閥門(mén)、快門(mén)、直線(xiàn)驅動(dòng)和抽真空擋板閥 | 手動(dòng)/自動(dòng)閥門(mén)、快門(mén)、直線(xiàn)驅動(dòng)和抽真空擋板閥 |
控制軟件 | 配方驅動(dòng)過(guò)程、電源控制和數據記錄 | 配方驅動(dòng)過(guò)程、電源控制和數據記錄 |
原位監測 | 石英晶體微量天平用于過(guò)程監測和終點(diǎn)檢測 | 石英晶體微量天平用于過(guò)程監測和終點(diǎn)檢測 |
源端口 | 最多4個(gè)沉積源 | 最多5個(gè)沉積源 |
源類(lèi)型 | 納米粒子源、磁控濺射源、小型電子束蒸發(fā)源、熱舟蒸發(fā)源、K型離子源、射頻原子源 | 納米粒子源、磁控濺射源、小型電子束蒸發(fā)源、熱舟蒸發(fā)源、K型離子源、射頻原子源 |
涂層均勻性 | ±2%（樣品旋轉時(shí)） | |
產(chǎn)品咨詢(xún)
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