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簡(jiǎn)要描述：原位程序升溫化學(xué)吸附分析儀LoC-TPA 4000以MEMS自控溫諧振式微懸臂梁傳感芯片為檢測核心，摒棄在尾氣氣路中檢測氣體分子的方法，實(shí)現原位實(shí)時(shí)的程序升溫分析功能。
產(chǎn)品型號：廠(chǎng)商性質(zhì)：代理商更新時(shí)間：2025-01-03訪(fǎng) 問(wèn) 量：422產(chǎn)品分類(lèi)
Product Category詳細介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 應用領(lǐng)域 | 化工,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子/電池,制藥/生物制藥 |
|---|
原位程序升溫化學(xué)吸附分析儀LoC-TPA 4000以MEMS自控溫諧振式微懸臂梁傳感芯片為檢測核心，摒棄在尾氣氣路中檢測氣體分子的方法，實(shí)現原位實(shí)時(shí)的程序升溫分析功能。
該儀器的工作原理和方法為世界Innovation for the first time，與傳統化學(xué)吸附分析儀相比，除了體積更小巧外，本儀器具有樣品消耗量少、質(zhì)量分辨率高、控溫范圍廣、分析速度快等優(yōu)點(diǎn)，可廣泛應用于TPD、TPR、TPO等程序升溫分析測試。
產(chǎn)品特點(diǎn)
應用領(lǐng)域
催化劑酸堿性
氧化/還原性
催化反應
金屬分散度
競爭性吸附
單點(diǎn)BET比表面積
吸/脫附動(dòng)力學(xué)
與光譜儀器聯(lián)用實(shí)現工況下原位實(shí)時(shí)表征
應用實(shí)例
原位程序升溫化學(xué)吸附分析儀LoC-TPA 4000
指標名稱(chēng) | 參數 |
質(zhì)量變化測量與控溫 | Phoenix系列自控溫諧振式微懸臂梁傳感芯片 |
樣品量 | 1 pg ~ 30 ng |
質(zhì)量變化分辨率 | ≤1 pg |
溫度控制范圍 | -196℃ ~ 1000℃ |
溫度分辨率 | 0.1℃ |
溫度波動(dòng) | ±0.3℃ |
測量功能 | TPD、TPR、TPO、TPRx、金屬分散度、單點(diǎn)BET |
升溫速率 | 0.02 ~ 8000℃/s |
降溫速率 | 0.02 ~ 4000℃/s |
測量氣體 | 全防腐設計，可通腐蝕性氣體 |
同時(shí)測試數 | 雙通道 |
聯(lián)用 | 可與光學(xué)顯微鏡、顯微拉曼光譜儀、顯微紅外光譜儀等聯(lián)用 |
額定功率 | 50W |
主機尺寸（寬x深x高, cm） | 45 x 34 x 29 |
產(chǎn)品咨詢(xún)
聯(lián)系人：蔣新浩
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